真空鍍膜設備中的每一項部件都是非常重要的，每一個(ge) 零部件，每一次細小的操作過程，都可能會(hui) 影響鍍膜件的整體(ti) 效果。所以要詳細了解真空鍍膜設備的操作及維護內(nei) 空才能保證質量的完成鍍膜產(chan) 品。真空鍍膜工作原理是膜體(ti) 在高溫下蒸發落在工件表麵結晶。由於(yu) 空氣對蒸發的膜體(ti) 分子會(hui) 產(chan) 生阻力造成碰撞使結晶體(ti) 變得粗糙無光，所以必須在高真空下才能使結晶體(ti) 細密光亮，果如真空度不高結晶體(ti) 就會(hui) 失去光澤結合力也很差。早期真空鍍膜是依靠蒸發體(ti) 自然散射，結合差工效低光澤差。現在加上中頻磁控濺射靶用磁控射靶將膜體(ti) 的蒸發分子在電場的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉積在基片上成膜，解決(jue) 了過去自然蒸發無法加工的膜體(ti) 品種，如鍍鈦鍍鋯等等。